シリコンLSIの発展を支える超微細トランジスタプロセス技術-0.1およびSub-0.1μmMOSFETの高性能化のためのプロセス技術-
岩井洋 百瀬寿代
Vol.79 No.3pp.250-258
発行日:1996/03/01
Online ISSN:2188-2355
Print ISSN:0913-5693
種別:解説
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