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Vol.64 No.3 pp.279-286 半導体中の深い不純物準位の性質とその測定[完]-3.Si,GaAs,GaP中の不純物準位とデバイス特性- 生駒俊明 奥村次徳 | Summary | Full Text:PDF(481.7KB) |
Vol.64 No.2 pp.195-202 半導体中の深い不純物準位の性質とその測定-2.深い不純物準位の動的パラメータの測定法- 生駒俊明 奥村次徳 | Summary | Full Text:PDF(438.5KB) |
Vol.64 No.1 pp.59-66 半導体中の深い不純物準位の性質とその測定-1.半導体中の深い不純物準位の電気的・光学的性質- 生駒俊明 奥村次徳 | Summary | Full Text:PDF(464.7KB) |
Vol.62 No.3 pp.339-340 Device Research Conference 生駒俊明 奥村次徳 | Summary | Full Text:PDF(149.7KB) |
Vol.62 No.2 pp.237-238 Electronic Material Conference 生駒俊明 奥村次徳 | Summary | Full Text:PDF(152.3KB) |