Vol.100 No.9 pp.919-924 無償公開 化合物半導体技術のエレクトロニクスへの展開 上田 大助 田中 毅 瀧川 信一 | あらまし | Free本文:PDF(1.2MB) |
Vol.100 No.7 pp.648-654 ポストムーア技術としてのシリコンフォトニクス 山田 浩治 | あらまし | 本文:PDF(1.1MB) |
Vol.99 No.11 pp.1107-1111 無償公開 大規模光集積回路による低価格化への期待 松尾 慎治 | あらまし | Free本文:PDF(955.1KB) |
Vol.99 No.11 pp.1083-1088 シリコンフォトニクスデバイスの最新技術動向 中村 隆宏 | あらまし | 本文:PDF(875.4KB) |
Vol.99 No.10 pp.992-998 超高速光A-D変換の現状と今後の展開 小西 毅 | あらまし | 本文:PDF(875.4KB) |
Vol.99 No.6 pp.563-580 超低エネルギーダイナミック光パスネットワーク 並木 周 石井 紀代 高野 了成 工藤 知宏 来見田 淳也 上塚 尚登 池田 和浩 河島 整 井上 崇 黒須 隆行 佐藤 健一 | あらまし | 本文:PDF(2.9MB) |
Vol.97 No.10 pp.883-888 単電子デバイスの現在・過去・未来 藤原 聡 | あらまし | 本文:PDF(967.7KB) |
Vol.97 No.3 pp.193-197 アモルファスInGaZnO4薄膜トランジスタのトップゲート効果解析 竹知 和重 岩松 新之輔 | あらまし | 本文:PDF(1MB) |
Vol.96 No.3 pp.195-199 高速シリコンマッハツェンダ光変調器の最新動向 小川 憲介 | あらまし | 本文:PDF(1.1MB) |
Vol.95 No.11 pp.1034-1038 最先端シリコンフォトニクスデバイス 中村 滋 賣野 豊 | あらまし | 本文:PDF(1.3MB) |
Vol.94 No.6 pp.470-474 皮膚感覚の超越を目指すシリコン集積化触覚イメージャ 高尾 英邦 | あらまし | 本文:PDF(1.4MB) |
Vol.93 No.11 pp.923-927 アナログ混載技術 江本 知正 | あらまし | 本文:PDF(963.9KB) |
Vol.93 No.11 pp.918-922 極限集積化を目指すスーパチップ 小柳 光正 福島 誉史 李 康旭 田中 徹 | あらまし | 本文:PDF(1.2MB) |
Vol.91 No.3 pp.201-206 LSIオンチップ光配線技術 大橋 啓之 鈴木 信夫 西 研一 | あらまし | 本文:PDF(548.1KB) |
Vol.91 No.3 pp.194-200 シリコンフォトニクス 和田 一実 | あらまし | 本文:PDF(705.1KB) |