ポストムーア技術としてのシリコンフォトニクス

山田　浩治

あらまし

山田　浩治

Vol.100 No.7pp.648-654

発行日:2017/07/01

Online ISSN:2188-2355

Print ISSN:0913-5693

種別:解説

専門分野:

キーワード:
シリコンフォトニクス, ムーアの法則, バックエンドフォトニクス, プラズモニクス,

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あらまし:
コンピュータシステムにおけるムーアの法則は終えんを迎えつつあり，そのデータ伝送を担う基幹技術であるフォトニクスにもポストムーア時代に対応できる技術が求められている．エレクトロニクスの流れをくむシリコンフォトニクスは，エレクトロニクスにおけるポストムーア技術の開発アプローチと整合性が良く，即効性のある解を提供するであろう．しかしながら，そのシリコンフォトニクス自身も，量子的なスケーリング限界と材料物性の観点から，既に新しい技術を必要としている．本稿では，ポストムーア技術としてのシリコンフォトニクスについて，バックエンドフォトニクスやプラズモニクスなどの新奇技術による進化も含めて解説する．

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