シリコンフォトニクス技術を用いた集積フォトニクスプラットホームの構築

堀川　剛

あらまし

堀川　剛

Vol.105 No.11pp.1299-1306

発行日:2022/11/01

Online ISSN:2188-2355

Print ISSN:0913-5693

種別:特集　シリコンフォトニクスを用いた光通信素子の研究開発最新動向

専門分野:

キーワード:
シリコンフォトニクス, 光集積回路, 製造技術, 光導波路, 光変調器, ゲルマニウム受光器, 光ウェーハプロービング, プロセスモニタリング,

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あらまし:
シリコンフォトニクス技術による種々の光機能を大規模光回路に集積するためには，各機能デバイスの設計・プロセス・検証を連携させ，プラットホーム技術として統合する必要がある．我々は，ArF液浸露光などの40nm世代CMOS技術，300mm径SOI，ゲルマニウムエピタキシャル成長装置，光ウェーハプロービングシステムを用いたプロセス制御，及び統合的な設計ライブラリにより，世界最高の低伝搬損導波路，波長確度の高いフィルタ素子，高速変調器・受光器等の再現性の高い集積を可能とするプラットホーム技術を確立した．

あらまし

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