シリコン上集積量子ドットレーザの進展
Vol.105 No.11pp.1349-1355
発行日:2022/11/01
Online ISSN:2188-2355
Print ISSN:0913-5693
種別:特集 シリコンフォトニクスを用いた光通信素子の研究開発最新動向
専門分野:
キーワード:
量子ドットレーザ, シリコンフォトニクス, 貼り合わせ法, 転写プリント法, 直接成長技術,
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あらまし:
量子ドットレーザは,高温での安定動作や高い戻り光耐性など,優れた特性を有する究極の半導体レーザであり,シリコン上光電融合集積回路の光源としても期待されている.本稿では,光電融合集積回路への展開に向けた量子ドットレーザの発展を紹介するとともに,貼り合わせ法や転写プリント法,更にはシリコン基板上直接成長などを用いて,シリコン上における量子ドットレーザの集積化技術について,最近の筆者らの成果を中心に紹介する.