原子操作による半導体微細加工と超精密量子ドット[]――極限の精度を実現するリソグラフィー技術――
Vol.98 No.6pp.500-504
発行日:2015/06/01
Online ISSN:2188-2355
Print ISSN:0913-5693
種別:解説
専門分野:
キーワード:
リソグラフィー, 原子操作, STM, ナノ構造, 量子ドット,
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あらまし:
現在の半導体産業における微細化・集積化技術は,間もなく限界に達すると言われており,素子の構造や形成方法は共に抜本的な変革が求められている.原子操作は,原子の数と配列を精密に制御して微細構造を形成する技術である.この技術は,これまで困難だった,原子精度で均一な素子の作製やその集積化を可能にする.本稿では,原子操作技術と原子1個の誤差もなく作製した極微細半導体構造について2回にわたり解説する.連載前編の今回は,半導体における原子操作技術に関する実験を紹介し,そのリソグラフィー応用について説明する.