あらまし

原子操作による半導体微細加工と超精密量子ドット［］――極限の精度を実現するリソグラフィー技術――

蟹澤　聖 Stefan FÖLSCH 

Vol.98 No.6pp.500-504

発行日:2015/06/01

Online ISSN:2188-2355

Print ISSN:0913-5693

種別:解説

専門分野:

キーワード:
リソグラフィー, 原子操作, STM, ナノ構造, 量子ドット, 

本文:PDF(935.5KB)>>

記事を購入

あらまし:
現在の半導体産業における微細化・集積化技術は，間もなく限界に達すると言われており，素子の構造や形成方法は共に抜本的な変革が求められている．原子操作は，原子の数と配列を精密に制御して微細構造を形成する技術である．この技術は，これまで困難だった，原子精度で均一な素子の作製やその集積化を可能にする．本稿では，原子操作技術と原子1個の誤差もなく作製した極微細半導体構造について2回にわたり解説する．連載前編の今回は，半導体における原子操作技術に関する実験を紹介し，そのリソグラフィー応用について説明する．

ログイン

 > 

パスワードを忘れた場合は

メニュー

Online ISSN:2188-2355

…ジュニア会員・学生員に
　お勧めの記事