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Vol.64 No.12 pp.1261-1268 ビームアニール技術とデバイス応用 徳山巍 田村誠男 宮尾正信 | あらまし | 本文:PDF(479.9KB) |
Vol.60 No.9 pp.979-982 LTPトランジスタの開発 徳山巍 | あらまし | 本文:PDF(272.9KB) |
Vol.60 No.4 pp.482-482 伊藤糾次,ほか:“イオンインプランテーション” 徳山巍 | あらまし | 本文:PDF(60.9KB) |
Vol.57 No.7 pp.783-792 1.LSI製作技術の最近の進歩 永田穣 中沼尚 徳山巍 久保征治 | あらまし | 本文:PDF(734.7KB) |
Vol.56 No.5 pp.631-632 5.Internationaler Kongress Mikroelektronik 徳山巍 | あらまし | 本文:PDF(104.6KB) |
Vol.55 No.4 pp.481-485 3.3 イオン打込み 徳山巍 池田隆英 | あらまし | 本文:PDF(447.5KB) |
Vol.54 No.3 pp.332-334 1970 International Electron Devices Meeting 徳山巍 | あらまし | 本文:PDF(194.6KB) |
Vol.49 No.7 pp.1335-1341 二層構造酸化物被膜によるシリコン表面の安定化 徳山巍 | あらまし | 本文:PDF(549.2KB) |
Vol.43 No.4 pp.448-450 (A)スイッチ用トランジスタ 伴野正美 徳山巍 | あらまし | 本文:PDF(212.7KB) |