著者検索結果：百瀬寿代(1件)

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Vol.79 No.3 pp.250-258  
シリコンLSIの発展を支える超微細トランジスタプロセス技術－0．1およびSub－0．1μmMOSFETの高性能化のためのプロセス技術－
岩井洋 百瀬寿代 
あらまし | 本文:PDF(490.7KB)

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Online ISSN:2188-2355

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