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Vol.105 No.11 pp.1284-1290 無償公開 総論――我が国におけるシリコンフォトニクス技術開発プロジェクト―― 荒川 泰彦 田原 修一 | あらまし | Free本文:PDF(1.5MB) |
Vol.105 No.11 pp.1375-1382 GaAs系InAs量子ドット組成混合を用いた集積レーザの要素技術開発とシリコン光デバイス 宇髙 勝之 伊藤 大誠 ヘインサル シーム 清水 叶 松島 裕一 石川 浩 | あらまし | 本文:PDF(2.3MB) |
Vol.105 No.11 pp.1349-1355 シリコン上集積量子ドットレーザの進展 權 晋寛 太田 泰友 岩本 敏 荒川 泰彦 | あらまし | 本文:PDF(1.9MB) |
Vol.98 No.7 pp.590-596 原子操作による半導体微細加工と超精密量子ドット[・完]――原子1個の誤差もない半導体量子構造―― 蟹澤 聖 Stefan FÖLSCH | あらまし | 本文:PDF(1.4MB) |
Vol.98 No.6 pp.500-504 原子操作による半導体微細加工と超精密量子ドット[]――極限の精度を実現するリソグラフィー技術―― 蟹澤 聖 Stefan FÖLSCH | あらまし | 本文:PDF(935.5KB) |
Vol.91 No.11 pp.940-945 量子ドットを用いた量子通信 臼杵 達哉 | あらまし | 本文:PDF(3MB) |
Vol.91 No.11 pp.995-1001 量子ドットレーザと光増幅器 菅原 充 | あらまし | 本文:PDF(5.7MB) |
Vol.91 No.11 pp.931-939 量子ドットを用いた量子計算 武藤 俊一 足立 智 笹倉 弘理 | あらまし | 本文:PDF(18.4MB) |
Vol.91 No.11 pp.922-930 総論:先端ナノフォトニクスの展開──量子ドットを中心にして── 荒川 泰彦 | あらまし | 本文:PDF(8.6MB) |